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紫外激光清洗機(jī) RL-UQ-H/A系列
簡介
詳情

性能特點(diǎn)

1、針對(duì)微米、亞微米顆粒的清洗設(shè)備,清洗精度高,適用于半導(dǎo)體材料、電子電路、芯片制備及3C硬件產(chǎn)業(yè)。芯片、電極、磁頭、磁盤以及各種微電子產(chǎn)品;

2、能滿足其他大型清洗設(shè)備所不能達(dá)到的清洗需求;

3、操作簡單  通電即可運(yùn)行,便捷易上手,可用于長時(shí)間作業(yè)。

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